馗鼎DLC/PVD納米復合硬質涂層設備
1.等離子體輔助化學氣相沉積系統(PECVD)：
?系統主要分為：DLC系統(PEC500)、Me/DLC系統(PEC500-S)
1.1 DLC專用設備(PEC500)
?DLC涂層采PECVD技術制備，涂層細致且平滑，有別于arc/sputter系統制備的Me-DLC。表面平滑程度可應用至光學模具等級之范疇。
?單層DLC涂層專用機型，自制核心技術，無需金屬中介層，與基材附著性優異
?制程溫度<250℃，基材限制少
?非鐵合金切削性能優異，與白刀相比，壽命增益高達2倍以上。高光鋁用刀應用等
?應用范疇：模具(塑料射出、粉末冶金、鋁擠型、光盤)、生醫、封裝、自潤磨耗零組件、裝飾性表殼、機殼等。
1.2Me/DLC設備(PEC500-S)
?整合Sputter PVD及PECVD技術，可制備納米復合Me/DLC涂層。
?以Sputter系統制備具細致柱狀結構之金屬氮碳化物涂層并額外提供PECVD系統之平滑磨潤之DLC膜層，可延伸應用至需耐沖擊磨耗之應用場合，如：沖壓/鍛造/整平模具、沖棒、汽車零組件等。
?PVD Sputter系統為非平衡磁控濺鍍系統，可增加其鍍膜區域之離子濃度、靶材電流密度提高、結構較為致密平整、沉積速率也較平衡式系統高?？芍苽涓哔|量之PVD功能性涂層。
?復合系統具備彈性且應用較廣之功能性
2.陰極多弧系統(歐洲技術)：
?系統分為圓形靶系統(PVN500-C8、PVN650-C12)、矩形靶系統(PVN500-R4)
?系統均采八邊形不銹鋼腔體，系統設計優化，不僅加熱均勻，在不換靶材情況下，可制備超過5種以上涂層種類。
?夾層式水路冷卻，可均勻冷卻腔體制程受熱狀況，有效提升腔體使用年限
?真空零配件均采進口組件，設備穩定性高
?搭載進口超高真空全磁浮真空渦輪幫浦，可抽至5*10-5torr。
?特殊幾何形狀檔板(遮蔽靶源)，避免靶材的污染
?8軸3轉公自轉機構，產能大且膜層分布均勻。Ex：D6*L50的立銑刀，在500型產能可高達2400pcs。
?置具臺車方便Loading/Unloading生產，增加日產能，進而降低生產成本
?全自動化鍍膜生產，可遠程網絡診斷及程序除錯，避免不必要的專人看顧
?標準涂層種類：TiN、CrN、TiAlN、AlTiN。
?特色化涂層種類：ZrN、TiX-H、R7、AlTiCrN、AlCrN、AlTiSiN、TS(配合PECVD)、TA(配合PECVD)。
馗鼎納米科技股份有限公司簡介
1.馗鼎納米科技股份有限公司系由專業之等離子、材料及機電等技術團隊，以研發新等離子技術與新薄膜制程為本公司之核心能力，其中本公司以自組開發的陰極電弧系統所制備之AlTiN、AlTiCrN、TiX-H、ZrN、R7…等系列薄膜質量與其機械性質皆不輸進口知名鍍膜設備之薄膜。
2. 馗鼎的DLC類金鋼石涂層，更是引領鍍膜業界，為全臺灣首屈一指DLC涂層代工廠商，優異的磨潤性質、表面細致平滑、硬度高且與基材之結合性，顛覆一般DLC附著性不佳之刻板印象。而馗鼎的DLC應用在非鐵類金屬(鋁、銅合金…等)加工、射出成型模具脫膜、鍛造模具延壽、機械零件等抗磨耗均有優異之效果。
3.馗鼎本著”服務”與”品質”為其經營宗旨，致力于提供優質、高穩定性之真空鍍膜設備，以保證客戶生產良率及質量可領先群雄，期待與客戶建立互信互利之長期合作關系。
